激光粒度分析儀是指通過建立表征粒度級豐度與各特定角處獲取的光能量的數(shù)學物理模型而研制的儀器，測量光能，由特定角度測得的光能與總光能的比較推出顆粒群相應粒徑級的豐度比例量。
如果判斷激光粒度分析儀的優(yōu)劣呢？在選購激光粒度儀時應注意哪些要素呢？
1、要關注粒度測量范圍，尤其是看超出主檢測器面積的小粒子散射如何檢測，可以進行全范圍直接檢測。一般來說，粒度范圍越寬，應用范圍越廣。
2、激光粒度分析儀的激光光源也十分重要，因此激光器的功率不能太小，以免靈敏度不夠，氣體光源穩(wěn)定性要優(yōu)于固體光源，檢測器激光衍射光環(huán)半徑越小越好，能夠避免漏檢。
3、為了避免漏檢，提升儀器的精確度，可以選擇使用完全的米氏理論的激光粒度分析儀，而不是采用近似的米氏理論的儀器。
4、激光粒度分析儀的準確性和重復性指標十分重要，準確性和重復性越高越好。
5、光路的穩(wěn)定性、分散系統(tǒng)的穩(wěn)定性、以及周圍環(huán)境的影響等都是激光粒度分析儀穩(wěn)定性的表現(xiàn)，盡量選擇穩(wěn)定性強的儀器。氣體激光器有助于光路的穩(wěn)定，內(nèi)部發(fā)熱部件會影響光路周圍環(huán)境。
6、掃描速度越高越好，這樣不僅能夠提高數(shù)據(jù)準確性，而且對于提升處理樣品效率也極有幫助。
7、激光粒度分析儀是否符合國際相關標準和行業(yè)標準，儀器的維護和保養(yǎng)是否簡便，包括拆卸、清洗是否方便等。
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激光粒度儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布。適用于檢測懸浮在水相和有機相的顆粒物。
1、磨料。
磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。
磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。
2、乳劑。
乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。
常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。
3、陶瓷。
陶瓷在工業(yè)中的應用非常廣泛，從磚瓦到生物醫(yī)用材料及半導體領域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制zui終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。
4、粘土。粘土是一種含水細小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似，但粉沙的顆粒比粘土大。
粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。
5、涂料。涂料種類繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。
6、污染監(jiān)測。
粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用，產(chǎn)品的污染對產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。
絕大多數(shù)行業(yè)都有相應的標準、規(guī)程或規(guī)范，必須嚴格遵守和執(zhí)行，以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。
7、化妝品。無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關。
化妝品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。
保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用。
8、食品。
食品的原料（粉末及液體）通常來源于不同的加工廠，不同來源的原料必須滿足某些特定的標準以使zui終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。
原料性質(zhì)的任何波動都會對食品的口味和口感產(chǎn)生影響。
用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制（QA/QC）的一個指標可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。
9、液體工作介質(zhì)/油。液體工作介質(zhì)（如：油）越來越昂貴，延長液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關心的問題。
機械設備運轉過程中會產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中（如：油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)），因此需要一種方法來確定介質(zhì)（油）的更換周期。
通過監(jiān)測工作介質(zhì)（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命。
10、墨水。
隨著打印機技術的不斷發(fā)展，打印機用的墨水變得越來越重要。
噴墨打印機墨水的粒度應當控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。
墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設備監(jiān)測其研磨加工過程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。
11、膠束。
膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后，其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點微粒，這種膠體質(zhì)點與離子之間處于平衡狀態(tài)。
12、化學機械拋光(CMP)。
化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟?；瘜W機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。
拋光過程很大程度上取決于晶片表面構型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質(zhì)量至關重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學機械拋光加工過程的順利進行。
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